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Aparelho de reação fotoquímica de alta pressão TPR-HP, Design de Reactor Fotoquímico
1. Componentes principais: vaso de reação de aço inoxidável, conjuntos de PTFE, vidro de quartzo sob pressão, filtro, etc.
2.Customization: -120 ℃ ~ 300 ℃ Circulador de temperatura alta e baixa, dispositivo de proteção de gás de liberação de sobrepressão, peneira padrão de Taylor.
3.Este vaso de reator fotoquímico de alta pressão de tipo precisa usar junto com a fonte de luz da série TOP-X.
Parâmetros técnicos do reator fotoquímico de alta pressão TPR-HP:
Modelo | TPR-HP150 | TPR-HP300 | TPR-HP500 | TPR-HP1000 |
Tipo de fonte de luz | Xenon / lâmpada UV | |||
Poder da fonte de luz | 500W | 500W | 1000W | 1500W |
Vida útil da fonte de luz | 1000H | 1000H | 1000H | 1000H |
Características da radiação | Ponto de origem | Ponto de origem | Ponto de origem | Ponto de origem |
Diâmetro de irradiação | 80MM | 80MM | 80MM | 100MM |
Sistema de refrigeração | 3 radiadores fortes | |||
Janela de luz de pressão | ter | |||
Aparelho de agitação magnética | ter | |||
Plataforma de elevação | ter | |||
O material principal do recipiente de reação | Aço inoxidável 316L / (material de titânio puro / liga de Hastelloy ) opcional | |||
Capacidade interna de PTFE de corrosão única | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
Capacidade interna PTFE resistente a corrosão tipo revestimento (opcional) | 150ML | 300ML | 500ML | 1000ML |
Pressão de design (opcional) | 2KG / 5KG / 10KG / 20KG | |||
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